磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎上發(fā)展起來(lái)的一種新型濺射鍍膜法，由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn)，因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應用.

1. 磁控濺射:

離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現象稱(chēng)為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現濺射鍍膜.

磁控濺射的基本原理:

磁控濺射是在濺射區加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng)，處于正交電場(chǎng)區E和磁場(chǎng)B中的電子的運動(dòng)方程，

工具鍍的目的：主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數，提高工件的使用壽命；這方面主要應用在各種刀剪、車(chē)削刀具（如車(chē)刀、刨刀、銑刀、鉆頭等等）等產(chǎn)品中。

雖然使用PVD鍍膜技術(shù)能夠鍍出高品質(zhì)的膜層，但是PVD鍍膜過(guò)程的成本其實(shí)并不高，它是一種性?xún)r(jià)比非常高的表面處理方式，商丘鍍鈦哪里有，所以近年來(lái)PVD鍍膜技術(shù)發(fā)展得非?？?。PVD鍍膜已經(jīng)成為五金行業(yè)表面處理的發(fā)展方向。

其缺點(diǎn)是：

1）工藝比傳統單色PVD的更為復雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高；

2）生產(chǎn)良率低，真空鍍鈦哪里有，大約為65～70%（傳統單色PVD的生產(chǎn)良率一般為85～90%；

3）價(jià)格會(huì )比傳統單色PVD的高50～60%；

4）因工藝和流程的影響，金屬表面鍍鈦哪里有，雙色PVD生產(chǎn)限制較多，受產(chǎn)品結構的影響較大，而傳統單色PVD則幾乎不受限制

現代涂層設備(均勻加熱技術(shù)、溫度測量技術(shù)、非平衡磁控濺 射技術(shù)、輔助陽(yáng)極技術(shù)、中頻電源、脈沖技術(shù)) 現代涂層設備主要由真空室、真空獲得部分、真空測量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統、機械傳動(dòng)部分、加熱及測溫部件、離子蒸發(fā)或濺射源、水冷系統等部分組成。